光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的混合液态感光材料，主要由增感剂（光引发剂）、感光树脂（聚合剂）、溶剂与助剂构成。

光刻胶利用光化学反应， 经曝光、显影等光刻工艺，将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是用于微细加工技术的关键性电子化学品。因其在半导体等电子器件制造过程中的关键作用，光刻胶成为我国重点发展的电子产业关键材料之一。

国外主要光刻胶企业

JSR

JSR（原日本合成橡胶有限公司）成立于1957年，产品涵盖G/I线、KrF、ArF（干法/湿法）和EUV光刻胶等，是全球光刻胶领先生产商。目前，JSR光刻胶全球市占率约13%，半导体光刻胶市场份额约28%。

东京应化

东京应化成立于1936年，为全球领先的半导体光刻胶生产商，产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。

信越化学

信越化学成立于1926年，前身为信越氮肥料株式会社，为日本较大的化工企业。1998年，信越化学实现光刻胶产品的商用化，主营光刻胶产品有I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF（干式和湿式）、EUV光刻胶。

富士胶片

富士胶片成立于1934年，最早致力于感光材料产品的生产。在胶片时代，富士胶片的照相机胶卷、光学素质和相关冲印材料长期处于行业领导位置。富士胶片基于在胶片业务中积累的光学和化学优势，将业务板块延展为医疗&材料解决方案、文件解决方案、影像解决方案三大业务及9个子板块，并实现业绩的稳定增长，其富士胶片的光刻胶业务隶属于医疗&材料解决方案中的高功能材料板块。目前，富士胶片的光刻胶产品覆盖负胶、i线、KrF、ArF、电子束胶等。《日刊工业新闻》透露，富士胶片已正式启动EUV光刻胶业务，目标在2024年之前获得全球10%市占率。

东进世美肯

东进世美肯成立于1967年，在韩国内首家开发PVC以及橡胶发泡剂，在发泡剂领域取得成功后，借助韩国国内电子产业基础和产业政策的支持，迅速在电子材料领域崛起。 据韩媒报道，2021年5月25日，东进世美肯在京畿道华城巴兰的工厂举行了新光刻胶制造大楼的竣工仪式和产品交付仪式，其投资200亿韩元的新半导体光刻胶工厂全面运营。首席执行官Jun-h-hyuk表示计划在这里生产EUV光刻胶。

住友化学

住友化学成立于1913年，是日本的大型综合化学公司之一，业务主要包括石油化工、能源和功能材料、信息电子化学、健康和农业相关业务、健康等，其光刻胶业务属于信息电子化学，主要包含i线、KrF、ArF、EUV光刻胶等。

国内主要光刻胶生产商

南大光电

南大光电成立于2000年，是专业从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售的高新技术企业。2020年12月，南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过武汉新芯的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，打破了我国高档光刻胶受制于人的局面。

彤程新材

彤程新材成立于2008年，电子化学品业务主要涵盖半导体光刻胶及配套试剂、显示面板光刻胶和电子级酚醛树脂。

2020年，彤程新材通过外延并购实现光刻胶业务布局，其子公司北京科华和北旭电子分别为国内半导体光刻胶和面板光刻胶领先企业。其中，北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，其研发进度国内领先，KrF光刻胶实现量产。北旭电子是国内首家TFT光刻胶制造商，国内市场整体占有率近20％。

上海新阳

上海新阳成立于1997年，二十年来，上海新阳经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术。

紧密围绕两大核心技术，上海新阳开发研制出140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域，满足芯片铜制程90-28 nm工艺技术要求，相关产品已成为多家集成电路制造公司28nm技术节点的基准材料，成为中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌。

此外，上海新阳已立项研发集成电路制造用高分辨率193 nmArF光刻胶及配套材料与应用技术。目前，KrF光刻胶产品已取得订单，ArF干法光刻胶尚在认证当中，合肥第二生产基地项目正在按计划建设当中。

晶瑞电材

晶瑞电材成立于2001年并于2011年收购苏州瑞红部分股份，是一家集研发、生产和销售于一体的微电子新材料公司，2018年，晶瑞电材I线光刻胶量产，产能达100吨/年，主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料等，广泛应用于半导体、面板显示、LED等泛半导体领域及锂电池、太阳能光伏等新能源行业。

容大感光

容大感光成立于1996年，是一家专业生产高端感光化学材料的国家级高新技术企业，光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

2021年9月27日，容大感光发布公告称，拟在珠海经济技术开发区投资6亿元建设感光干膜、平板显示光刻胶、半导体光刻胶产品等项目。